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等离子抛光简介

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等离子抛光简介

发布日期:2023-09-23 作者: 点击:3719次

  等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应,分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米,处理深度为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内,因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面,去除表面分子污染层,交叉链接表面在化学物质。

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  纳米抛光被称为等离子抛光。纳米抛光是一种环保的抛光工艺。按原来来说导电金属都可以,只是抛光盐不一样而已,抛光盐的研发是一个很高的技术挑战。目前成熟的是不锈钢抛光,等离子抛光。


  用在不锈钢抛光上在国内都有接近20年的时间,在近几年慢慢开始把等离子抛光运用于铝合金、锌合金、铜、铜合金、钛合金、金银、可发合金、铁、钢的抛光,范围广泛、材料多样化,在抛光行业会做一次革命,可以取代传统抛光行业的部分技术含量高的工作、让抛光变得简单容易。

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