等离子抛光机由底座、抛盘、抛光织物、抛光罩及盖等基本元件组成。电动机固定在底座上，固定抛光盘用的锥套经过螺钉与电动机轴相连。抛光织物经过套圈紧固在抛光盘上，电动机经过底座上的开关接通电源起动后，便可用手对试样施加压力在转动的抛光盘上进行抛光。抛光过程中参加的抛光液可经过固定在底座上的塑料盘中的排水管流入置于抛光机旁的方盘内。抛光罩及盖可防止灰土及其他杂物在机器不运用时落在抛光织物上而影响运用效果。

等离子抛光机操作的关键是要设法得到更大的抛光速率，以便尽快除去磨光时发生的损害层。一起也要使抛光损害层不会影响最终观察到的安排，即不会形成假安排。前者要求运用较粗的磨料，以确保有较大的抛光速率来去除磨光的损害层，但抛光损害层也较深；后者要求运用最细的资料，使抛光损害层较浅，但抛光速率低。处理这个矛盾的更好的方法便是把抛光分为两个阶段进行。粗抛意图是去除磨光损害层，这一阶段应具有更大的抛光速率，粗抛形成的表层损害是非必须的考虑，不过也应当尽可能小；其次是精抛(或称终抛)，其意图是去除粗抛发生的表层损害，使抛光损害减到最